- El prototipo genera radiación de 13,5 nanómetros con plasma de estaño y láser de potencia.
- Se trata de la pieza tecnológica más difícil de replicar en la fotolitografía moderna.
- Fundiciones chinas como SMIC podrían acceder a maquinaria nacional en los próximos años.
Equipos de ingeniería de la República Popular China alcanzaron un hito en la física aplicada tras validar el funcionamiento de una fuente de luz UVE en China, el componente angular e insustituible para operar maquinaria de litografía ultravioleta extrema. Con este logro de laboratorio, la nación asiática despeja el mayor enigma tecnológico que la separaba de los países occidentales, acelerando su plan de desconexión frente a los bloqueos de licencias foráneas.
Física del plasma y superación del bloqueo tecnológico
El mecanismo desarrollado emplea un generador de gotas de estaño que dispara esferas metálicas a gran velocidad, interceptadas dos veces por un rayo láser de pulso ultracorto para ionizar el material y emitir fotones de luz ultravioleta en el espectro exacto requerido para la impresión de circuitos integrados. La estabilidad alcanzada en las pruebas demuestra que los ingenieros chinos descifraron la compleja aerodinámica y óptica de recolección requerida.
La consecución de este objetivo fue posible gracias a la inyección sin precedentes de recursos por parte del fondo estatal de inversiones en circuitos integrados, conocido como el Gran Fondo. La medida buscaba eludir las directivas de control de exportaciones que prohíben a ASML comercializar sus máquinas EUV con fundiciones del gigante asiático como SMIC.
Hacia la máquina litográfica completamente nacional
El siguiente desafío de los centros de investigación consistirá en ensamblar esta fuente de luz en un chasis de escaneo integral que integre los sistemas de lentes de cuarzo y espejos multicapa desarrollados por fabricantes ópticos locales. Si el ritmo de integración mantiene su cadencia actual, los primeros escáneres comerciales chinos podrían iniciar pruebas piloto antes de concluir la presente década.
Este paso histórico corrobora que la fragmentación del mercado internacional de semiconductores fomenta la edificación de dos cadenas de suministro litográficas totalmente independientes y autosuficientes. Si desea conocer análisis exhaustivos sobre la geopolítica de los microchips, la soberanía informática y la innovación asiática, visite la sección de tecnología global, con despachos especializados permanentes.
Fuente informativa: Xataka — China y el desarrollo de su fuente de luz UVE.
